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      晶體定向儀:
      0415-2155900
      傳真電話:
      0415-2155887
      無損探傷儀:
      0415-2150150
      傳真電話:
      0415-2151390
       
      JF-2型勞厄晶體分析儀

        JF-2型勞厄晶體分析儀能夠提供穩定的X射線光源,特點是利用可控硅和集成電路自動控制系統進行調流調壓,從而獲得一個強而穩定的射線光源.該機射線發生器功率大,整機穩定性高,操作簡單,可靠性強,防護完善,可與各種射線照相機一起構成X射線晶體分析儀,或用于其他用途的X射線光源.,廣泛用于冶金,機械,電子,化工,地質,,能源,等科研、企業、大專院校.
        該X射線晶體分析儀,主要用于研究物質內部微觀結構。如:單晶定向、檢驗缺陷、物質定性、測定點陣參數、測定殘余應力等。

        主要參數:

      電 源

      AC220V 50HZ 30A

      功 率

      2 KW

      靶 材

      Cu(可選其他靶材)

      管電壓

      50 KV(分檔可調)

      管電流

      50 mA(分檔可調)

      穩定度

      ±1%

      保 護

      過功率、過電壓、過電流、無水

      冷 卻

      循環水、制冷水箱

      防 護

      鉛有機玻璃與金屬結構防護罩

      相 機

      A:德拜相機(粉沫相機)大、小兩種;) B:勞厄相機(平板相機)
      (相機裝底片 ;暗室洗底片)上述兩種相機,用戶可自行選配置

       

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